詳細(xì)摘要： 勞厄單晶定向儀是為晶體定向和表征單晶設(shè)計(jì)的實(shí)時(shí)Laue相機(jī)
產(chǎn)品型號(hào)：FPMUL-mwl120所在地：更新時(shí)間：2024-04-27 在線留言孚光精儀（中國(guó)）有限公司
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詳細(xì)摘要： 勞厄單晶定向儀是為晶體定向和表征單晶設(shè)計(jì)的實(shí)時(shí)Laue相機(jī)
產(chǎn)品型號(hào)：FPMUL-mwl120所在地：更新時(shí)間：2024-04-27 在線留言
詳細(xì)摘要： 臺(tái)式薄膜沉積系統(tǒng)為是模塊化的PVD系統(tǒng),為您的研究和實(shí)施應(yīng)用提供了多種沉積選項(xiàng)
產(chǎn)品型號(hào)：FPKOR-HEX所在地：更新時(shí)間：2023-06-15 在線留言
詳細(xì)摘要： 脈沖激光沉淀系統(tǒng)工作站PLD是氧化還原系統(tǒng)，脈沖激光沉積（PLD）是一種用于薄膜沉積的多用途工藝，其主要優(yōu)點(diǎn)是將化學(xué)計(jì)量的材料從靶轉(zhuǎn)移到襯底
產(chǎn)品型號(hào)：FPSUR-PLD-Workstation所在地：更新時(shí)間：2023-03-30 在線留言
詳細(xì)摘要： 激光分子束外延系統(tǒng)LaserMBE是新型激光薄膜制備技術(shù)設(shè)備,它集成了普通分子束外延（MBE）的超高真空、原位監(jiān)測(cè)的優(yōu)點(diǎn)和脈沖激光沉積（PLD）的易于控制化學(xué)組...
產(chǎn)品型號(hào)：FPSUR-LASER-MBE所在地：更新時(shí)間：2023-03-30 在線留言
詳細(xì)摘要： 超高真空激光分子束外延集群系統(tǒng)lasercluster將不同的薄膜和分析技術(shù)結(jié)合成一個(gè)強(qiáng)大的系統(tǒng)
產(chǎn)品型號(hào)：FPSUR-Laser-Cluster所在地：更新時(shí)間：2023-03-30 在線留言
詳細(xì)摘要： 光束線同步PLD系統(tǒng),新型脈沖激光沉積系統(tǒng)適合原位同步衍射/散射研究,精確了解影響薄膜界面形成和生長(zhǎng)的機(jī)制
產(chǎn)品型號(hào)：FPSUR-Beamline所在地：更新時(shí)間：2023-03-30 在線留言
詳細(xì)摘要： 太陽(yáng)能電池單面干法刻蝕機(jī)是專業(yè)為晶圓刻蝕設(shè)計(jì)的干法蝕刻機(jī)
產(chǎn)品型號(hào)：FPMIN-ADE-100所在地：更新時(shí)間：2023-03-30 在線留言
詳細(xì)摘要： 磁控濺射系統(tǒng)MagSput是下一代磁控濺射沉積系統(tǒng)，實(shí)用性腔,可擴(kuò)展性高,且高度可靠,非常適合磁控濺射鍍膜科學(xué)研究
產(chǎn)品型號(hào)：FPTOR-MagSput所在地：更新時(shí)間：2023-03-30 在線留言
詳細(xì)摘要： 感應(yīng)耦合反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng)ICPRIE由射頻電源感應(yīng)產(chǎn)生等離子體,以產(chǎn)生各向異性蝕刻
產(chǎn)品型號(hào)：FPTOR-ICPRIE所在地：更新時(shí)間：2023-03-30 在線留言
詳細(xì)摘要： 科研型原子層沉積系統(tǒng)ALD系芬蘭picosun公司R-200standard原子層沉積技術(shù),具有的熱壁設(shè)計(jì)和單獨(dú)的入口，可實(shí)現(xiàn)無(wú)顆粒工藝，適用于晶圓，3D對(duì)象和...
產(chǎn)品型號(hào)：FPPIC-R-200-standard所在地：更新時(shí)間：2023-03-30 在線留言
詳細(xì)摘要： 等離子體增強(qiáng)原子層沉積系統(tǒng)采用更大的腔室和等離子ALD模塊,獲得更好的原子層沉積效果
產(chǎn)品型號(hào)：FPCTE-Play所在地：更新時(shí)間：2023-03-30 在線留言
詳細(xì)摘要： ALD系統(tǒng)AT410提供了用于3D樣品制備的共形導(dǎo)電薄膜解決方案，同時(shí)還提供了目前使用濺射/蒸發(fā)生長(zhǎng)的傳統(tǒng)2D涂層
產(chǎn)品型號(hào)：FPANR-AT410所在地：更新時(shí)間：2023-03-30 在線留言
詳細(xì)摘要： COVAP物理氣相沉積系統(tǒng)為許多工藝應(yīng)用提供緊湊、經(jīng)濟(jì)、但仍然穩(wěn)健的PVD解決方案
產(chǎn)品型號(hào)：FPANG-COVAP所在地：更新時(shí)間：2023-03-30 在線留言
詳細(xì)摘要： 多功能物理氣相沉積平臺(tái)可搭載濺射,熱蒸發(fā),電子束蒸發(fā),等離子體和離子束處理功能模塊,是多功能PVD系統(tǒng)
產(chǎn)品型號(hào)：FPANG-AMOD所在地：更新時(shí)間：2023-03-30 在線留言
詳細(xì)摘要： 離子束沉積系統(tǒng)IBD采用真空沉積工藝，使用直接聚焦在濺射靶上的寬束離子源實(shí)現(xiàn)離子束沉積濺射鍍膜
產(chǎn)品型號(hào)：FPTOR-IBD所在地：更新時(shí)間：2023-03-30 在線留言
詳細(xì)摘要： 電子束蒸發(fā)系統(tǒng)EB-4P也是電子束沉積系統(tǒng),有四個(gè)容量不同的袖珍坩堝和各種電源
產(chǎn)品型號(hào)：FPTOR-EB-4P所在地：更新時(shí)間：2023-03-30 在線留言
詳細(xì)摘要： 真空電阻式熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)CRTE直徑觀察口匹配雙級(jí)旋轉(zhuǎn)葉片泵的渦輪分子真空泵系統(tǒng)帶沉積控制器的石英晶體厚度傳感器帶數(shù)字顯示和讀數(shù)的全量程真空計(jì)最多四個(gè)帶獨(dú)立百葉窗...
產(chǎn)品型號(hào)：FPTOR-CRTE所在地：更新時(shí)間：2023-03-30 在線留言
詳細(xì)摘要： 電子束-電阻熱蒸發(fā)復(fù)合鍍膜系統(tǒng)集合了電子束沉積鍍膜和電阻式熱蒸發(fā)鍍膜沉積功能
產(chǎn)品型號(hào)：FPTOR-EB4P所在地：更新時(shí)間：2023-03-30 在線留言
詳細(xì)摘要： 反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng)RIE600W是一款進(jìn)口等離子體反應(yīng)離子蝕刻機(jī),用于各向同性蝕刻,蝕刻氧化物、氮化物、聚合物等薄膜
產(chǎn)品型號(hào)：FPTOR-RIE600W所在地：更新時(shí)間：2023-03-30 在線留言
詳細(xì)摘要： 這款多功能緊湊型MBE系統(tǒng)具有三個(gè)腔室,適合用于А3В5,寬帶А2В6和А3N化合物（訂制版本）的生長(zhǎng),MBE系統(tǒng)設(shè)計(jì)吸收了這些材料系統(tǒng)中分子束外延的成果,非常...
產(chǎn)品型號(hào)：FPSEM-STE75所在地：更新時(shí)間：2021-08-16 在線留言您感興趣的產(chǎn)品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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